熱處理加熱（回火）設(shè)備是完成零件熱處理的最關(guān)鍵的裝備，根據(jù)特點(diǎn)可分為加熱爐和加熱裝置兩類，加熱爐通常包括電阻爐、鹽浴爐、燃料爐、真空爐、流動(dòng)粒子爐等，加熱裝置有電阻加熱、電接觸加熱、感應(yīng)加熱、火焰加熱、激光加熱、電子束加熱、離子注入等，下面主要介紹常用的熱處理加熱設(shè)備，便于操作者在進(jìn)行零件熱處理時(shí)參考。

加熱設(shè)備的類型很多，各自具有不同的加熱方式，可從不同的角度和特點(diǎn)分類，根據(jù)零件的熱處理要求，選擇符合技術(shù)要求的加熱設(shè)備，加熱設(shè)備和回火設(shè)備的最大區(qū)別在于溫度不同，因此回火設(shè)備的最高使用溫度不超過750℃。

①按照加熱源的來源不同，有電爐、燃料爐（以煤、重油、天然氣或煤氣燃燒等為熱源）。

②按工作溫度高低，分為高溫爐( 950～1350℃)、中溫爐(650～950℃)和低溫爐(＜650℃)。

③按爐型的差異，分為箱式爐、井式爐、臺(tái)車爐等。

④按加熱介質(zhì)的不同，分為空氣爐、鹽浴爐、可控氣氛爐、真空爐、輝光離子爐、流動(dòng)粒子爐等。

a．其中可控氣氛爐是在爐膛內(nèi)通入特定的氣氛，使零件在保護(hù)性氣氛中完成加熱過程，實(shí)現(xiàn)零件的無氧化脫碳，也可進(jìn)行零件的化學(xué)熱處理。

b．真空爐是零件在真空狀態(tài)下加熱和冷卻，零件表面無氧化脫碳現(xiàn)象，明顯提高了零件的使用壽命，零件的變形量為鹽爐的1/2～1/3。

c．輝光離子爐是零件在密閉的爐膛內(nèi)，根據(jù)輝光放電的原理，使介質(zhì)完全離子化，從而進(jìn)行零件的化學(xué)熱處理。

d．流動(dòng)粒子爐采用石墨粒子或氧化鋁粒子作為加熱介質(zhì)，空氣和可燃?xì)怏w混合后在爐膛內(nèi)燃燒，使吹沸粒子與零件接觸和撞擊來加熱零件。

⑤按作業(yè)的方式的區(qū)別，有周期爐、連續(xù)爐。

⑥按工藝的用途不同，有正火爐、退火爐、淬火爐、回火爐、滲碳爐、滲氮爐等加熱設(shè)備。